特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第62位　621件（2010年：第57位　692件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第41位　739件（2010年：第39位　580件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-49434	基板搬送装置及び基板搬送方法	2011年 3月10日
特開 2011-49432	ダミー基板の使用方法	2011年 3月10日
特開 2011-49173	プラズマ処理システムにおける改良された堆積シールド	2011年 3月10日
特開 2011-49566	センサ基板及び基板処理装置	2011年 3月10日
特開 2011-49596	マスクパターンの形成方法、微細パターンの形成方法及び成膜装置	2011年 3月10日
特開 2011-49592	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2011年 3月10日
特開 2011-49591	プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2011年 3月10日
特開 2011-49526	液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体	2011年 3月10日
特開 2011-49449	被処理体加熱処理方法及び被処理体加熱処理装置	2011年 3月10日
特開 2011-49360	プラズマエッチング方法	2011年 3月10日
特開 2011-49353	塗布膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2011年 3月10日
特開 2011-44446	圧力制御機器、圧力制御方法および基板処理装置	2011年 3月 3日	共同出願
特開 2011-42531	ガラス基板の穴あけ方法	2011年 3月 3日
特開 2011-43377	検査用接触構造体	2011年 3月 3日
特開 2011-44671	疎水化処理装置、疎水化処理方法及び記憶媒体	2011年 3月 3日

621 件中 496-510 件を表示

... 34

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-49434 2011-49432 2011-49173 2011-49566 2011-49596 2011-49592 2011-49591 2011-49526 2011-49449 2011-49360 2011-49353 2011-44446 2011-42531 2011-43377 2011-44671

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数