特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第62位　621件（2010年：第57位　692件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第41位　739件（2010年：第39位　580件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-35103	搬送装置及び処理システム	2011年 2月17日
特開 2011-35052	プラズマ処理装置用電極及びプラズマ処理装置	2011年 2月17日
特開 2011-35021	基板位置合わせ機構、それを用いた真空予備室および基板処理システム	2011年 2月17日
特開 2011-29230	塗布、現像装置	2011年 2月10日
特開 2011-25220	テンプレート処理装置、インプリントシステム、テンプレート処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2011年 2月10日
特開 2011-29388	真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置	2011年 2月10日
特開 2011-29649	ステージ	2011年 2月10日
特開 2011-29318	基板搬送装置	2011年 2月10日
特開 2011-26111	位置ずれ防止装置、これを備えた基板保持具、基板搬送装置および基板搬送方法	2011年 2月10日
特開 2011-29593	液処理装置	2011年 2月10日
特開 2011-29416	平面アンテナ部材およびこれを備えたプラズマ処理装置	2011年 2月10日
特開 2011-29284	成膜方法及び成膜装置	2011年 2月10日
特開 2011-29256	成膜方法	2011年 2月10日
特開 2011-26634	成膜装置及び成膜方法	2011年 2月10日
再表 2009-44798	プラズマ処理装置およびプラズマ密度分布の調整方法	2011年 2月10日

621 件中 541-555 件を表示

... 37

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-35103 2011-35052 2011-35021 2011-29230 2011-25220 2011-29388 2011-29649 2011-29318 2011-26111 2011-29593 2011-29416 2011-29284 2011-29256 2011-26634 2009-44798

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数