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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-29584	誘導結合プラズマ処理装置	2011年 2月10日
特開 2011-29514	堆積物対策用カバー及びプラズマ処理装置	2011年 2月10日
特開 2011-29415	選択酸化処理方法、選択酸化処理装置およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2011年 2月10日
特開 2011-29250	マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法	2011年 2月10日
特開 2011-20100	液処理装置及び液処理方法	2011年 2月 3日
特開 2011-20196	インゴット処理装置およびインゴット処理方法	2011年 2月 3日
特開 2011-23706	金属酸化物膜の形成方法及び成膜装置	2011年 2月 3日
特開 2011-23456	成膜方法	2011年 2月 3日
特開 2011-23097	チャージトラップ型メモリ装置における書き込み方法、消去方法及びチャージトラップ型メモリ装置	2011年 2月 3日
特開 2011-23671	現像装置、レジストパターンの形成方法及び記憶媒体	2011年 2月 3日
特開 2011-23669	処理液供給装置及び処理液供給方法	2011年 2月 3日
特開 2011-23530	基板処理装置	2011年 2月 3日
特開 2011-18650	誘導結合プラズマのプラズマ分布および性能を改善する装置	2011年 1月27日	共同出願
特開 2011-18821	表面処理方法	2011年 1月27日
特開 2011-18894	プラズマ処理装置用の消耗部品の再利用方法	2011年 1月27日

621 件中 556-570 件を表示

... 38

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2011-29584 2011-29514 2011-29415 2011-29250 2011-20100 2011-20196 2011-23706 2011-23456 2011-23097 2011-23671 2011-23669 2011-23530 2011-18650 2011-18821 2011-18894

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