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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-18684	プラズマ処理用基板載置台、プラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置	2011年 1月27日
特表 2011-503840	エアギャップ構造の作製方法及びシステム	2011年 1月27日
再表 2009-41219	Ｓｒ−Ｔｉ−Ｏ系膜の成膜方法および記憶媒体	2011年 1月20日	共同出願
特開 2011-14732	塗布装置	2011年 1月20日
特開 2011-14872	アモルファスカーボン膜の形成方法および形成装置	2011年 1月20日
特開 2011-12789	直線案内装置及び基板搬送装置並びに基板処理装置	2011年 1月20日
特開 2011-14935	基板洗浄装置及び基板洗浄方法。	2011年 1月20日
特開 2011-14849	液処理装置、液処理方法及び記憶媒体	2011年 1月20日
特開 2011-14706	基板処理装置及び基板処理方法	2011年 1月20日
特開 2011-14608	異常検出システム、異常検出方法及び記憶媒体	2011年 1月20日
特開 2011-14542	プラズマ発生装置およびリモートプラズマ処理装置	2011年 1月20日
特表 2011-502343	誘電膜の硬化方法	2011年 1月20日
再表 2009-41214	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2011年 1月20日
特開 2011-5432	プライミング処理方法及びプライミング処理装置	2011年 1月13日	共同出願
特開 2011-5360	ガス分解システムおよびガス分解器の寿命確認方法	2011年 1月13日

621 件中 571-585 件を表示

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2011-18684 2011-503840 2009-41219 2011-14732 2011-14872 2011-12789 2011-14935 2011-14849 2011-14706 2011-14608 2011-14542 2011-502343 2009-41214 2011-5432 2011-5360

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