特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年7月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
再表 2011-40328	表面波プラズマ発生用アンテナ、マイクロ波導入機構、および表面波プラズマ処理装置	2013年 2月28日
特開 2013-42145	プラズマ処理装置	2013年 2月28日
特開 2013-42144	載置台構造及び熱処理装置	2013年 2月28日
特開 2013-42012	半導体製造装置及び処理方法	2013年 2月28日
特開 2013-41896	半導体装置の製造方法及び半導体装置	2013年 2月28日
特開 2013-41879	成膜方法、これを含む半導体装置の製造方法、成膜装置、及び半導体装置	2013年 2月28日
特開 2013-41872	プラズマ処理装置	2013年 2月28日
特表 2013-506986	半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法および半導体デバイスの製造装置	2013年 2月28日
特表 2013-506313	基板上のシリコン含有反射防止コーティング層の再加工方法	2013年 2月21日	共同出願
特開 2013-38126	基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体	2013年 2月21日
特開 2013-38128	熱処理装置	2013年 2月21日
特開 2013-37627	温度制御方法、その温度制御方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、温度制御システム及び熱処理装置	2013年 2月21日
特開 2013-38423	パターン欠陥を低減するための複数回化学的処理プロセス	2013年 2月21日
特開 2013-38261	パーティクルモニタ方法、パーティクルモニタ装置	2013年 2月21日
特開 2013-38194	有機トランジスタ及びその製造方法	2013年 2月21日

712 件中 586-600 件を表示

... 40

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-40328 2013-42145 2013-42144 2013-42012 2013-41896 2013-41879 2013-41872 2013-506986 2013-506313 2013-38126 2013-38128 2013-37627 2013-38423 2013-38261 2013-38194

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数