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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
再表 2011-40328	表面波プラズマ発生用アンテナ、マイクロ波導入機構、および表面波プラズマ処理装置	2013年 2月28日
特開 2013-42145	プラズマ処理装置	2013年 2月28日
特開 2013-42144	載置台構造及び熱処理装置	2013年 2月28日
特開 2013-42012	半導体製造装置及び処理方法	2013年 2月28日
特開 2013-41896	半導体装置の製造方法及び半導体装置	2013年 2月28日
特開 2013-41879	成膜方法、これを含む半導体装置の製造方法、成膜装置、及び半導体装置	2013年 2月28日
特開 2013-41872	プラズマ処理装置	2013年 2月28日
特表 2013-506986	半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法および半導体デバイスの製造装置	2013年 2月28日
特表 2013-506313	基板上のシリコン含有反射防止コーティング層の再加工方法	2013年 2月21日	共同出願
特開 2013-38126	基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体	2013年 2月21日
特開 2013-38128	熱処理装置	2013年 2月21日
特開 2013-37627	温度制御方法、その温度制御方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、温度制御システム及び熱処理装置	2013年 2月21日
特開 2013-38423	パターン欠陥を低減するための複数回化学的処理プロセス	2013年 2月21日
特開 2013-38261	パーティクルモニタ方法、パーティクルモニタ装置	2013年 2月21日
特開 2013-38194	有機トランジスタ及びその製造方法	2013年 2月21日

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2011-40328 2013-42145 2013-42144 2013-42012 2013-41896 2013-41879 2013-41872 2013-506986 2013-506313 2013-38126 2013-38128 2013-37627 2013-38423 2013-38261 2013-38194

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