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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-9300 | 液処理装置及び液処理方法 | 2011年 1月13日 | |
| 特開 2011-9299 | 高圧処理装置 | 2011年 1月13日 | |
| 特開 2011-3458 | 荷電粒子選別装置及び荷電粒子照射装置 | 2011年 1月 6日 | 共同出願 |
| 特開 2011-3457 | 荷電粒子選別装置及び荷電粒子照射装置 | 2011年 1月 6日 | 共同出願 |
| 特開 2011-806 | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-805 | インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-3809 | 半導体ウエハのプリアライメント方法及びプリアライメント用プログラム | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-3912 | ラジアルアンテナ及びそれを用いたプラズマ処理装置 | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-3464 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用冷却装置 | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-1633 | 半導体製造方法 | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-1568 | バリヤ層、成膜方法及び処理システム | 2011年 1月 6日 | |
| 再表 2009-38168 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-1995 | ガスボックス | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-2390 | ウエハチャック用の温度センサ | 2011年 1月 6日 | |
| 特開 2011-3865 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2011年 1月 6日 |
621 件中 601-615 件を表示
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2011-9300 2011-9299 2011-3458 2011-3457 2011-806 2011-805 2011-3809 2011-3912 2011-3464 2011-1633 2011-1568 2009-38168 2011-1995 2011-2390 2011-3865
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