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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年7月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-38184 | 液処理装置 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-38178 | 基板処理装置及び同基板処理装置の除去処理体並びに基板処理方法 | 2013年 2月21日 | |
| 特開 2013-33815 | 処理装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33828 | 成膜方法 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33816 | プラズマ処理装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-32575 | タングステン膜の成膜方法 | 2013年 2月14日 | |
| 再表 2011-34057 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用ガス供給機構 | 2013年 2月14日 | |
| 再表 2011-33987 | 成膜方法、半導体素子の製造方法、絶縁膜および半導体素子 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33817 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-32938 | パワーデバイス用のプローブカード | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-34017 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33979 | マイクロ波プラズマ処理装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33940 | プラズマ処理装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33933 | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | 2013年 2月14日 | |
| 特開 2013-33925 | 洗浄方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、洗浄装置及び剥離システム | 2013年 2月14日 |
712 件中 601-615 件を表示
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2013-38184 2013-38178 2013-33815 2013-33828 2013-33816 2013-32575 2011-34057 2011-33987 2013-33817 2013-32938 2013-34017 2013-33979 2013-33940 2013-33933 2013-33925
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