特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-33922	基板液処理装置及び基板液処理方法	2013年 2月14日
特開 2013-33908	プラズマ処理装置	2013年 2月14日
特開 2013-33856	プラズマエッチング方法	2013年 2月14日
特開 2013-33847	基板受け渡し方法	2013年 2月14日
特開 2013-33809	ウエハ搬送装置	2013年 2月14日
特開 2013-33726	異常検出装置及び異常検出方法	2013年 2月14日
特開 2013-27843	前処理方法及びカーボンナノチューブの形成方法	2013年 2月 7日
特開 2013-30729	２流体ノズル及び基板液処理装置並びに基板液処理方法	2013年 2月 7日
特開 2013-30709	処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 2月 7日
特開 2013-30801	成膜装置	2013年 2月 7日
特開 2013-30751	バッチ式処理装置	2013年 2月 7日
特開 2013-30676	熱処理装置	2013年 2月 7日
特開 2013-30608	プラズマ処理装置及びその処理ガス供給構造	2013年 2月 7日
特開 2013-30392	プラズマ処理装置	2013年 2月 7日
特表 2013-504875	金属−シリコン−含有膜のパルス化学蒸着方法	2013年 2月 7日

712 件中 616-630 件を表示

... 42

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-33922 2013-33908 2013-33856 2013-33847 2013-33809 2013-33726 2013-27843 2013-30729 2013-30709 2013-30801 2013-30751 2013-30676 2013-30608 2013-30392 2013-504875

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数