特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年7月24日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-30158	画像処理方法、画像表示方法、画像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 2月 7日
特開 2013-29487	温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法	2013年 2月 7日
特開 2013-30707	処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 2月 7日
特開 2013-30708	基板処理装置、プログラム、コンピュータ記憶媒体、警報表示方法及び基板処理装置の点検方法	2013年 2月 7日
特開 2013-30701	熱処理装置、及びこれに基板を搬送する基板搬送方法	2013年 2月 7日
特開 2013-30559	液処理装置、液処理装置の制御方法、コンピュータプログラム、及びコンピュータ可読記憶媒体	2013年 2月 7日
特開 2013-30502	処理装置、処理方法及び記憶媒体	2013年 2月 7日
特開 2013-26603	印刷装置、印刷システム、印刷方法及びその印刷方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2013年 2月 4日
特開 2013-22944	印刷装置、印刷方法及びその印刷方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2013年 2月 4日
特開 2013-26513	アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置	2013年 2月 4日
特開 2013-26504	熱処理装置	2013年 2月 4日
特開 2013-26460	成膜装置及び基板処理装置	2013年 2月 4日
特開 2013-26387	載置台温度制御装置及び基板処理装置	2013年 2月 4日
再表 2011-27691	スパッタリング装置	2013年 2月 4日
再表 2011-30459	粒子の注入装置及び方法	2013年 2月 4日

712 件中 631-645 件を表示

... 43

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-30158 2013-29487 2013-30707 2013-30708 2013-30701 2013-30559 2013-30502 2013-26603 2013-22944 2013-26513 2013-26504 2013-26460 2013-26387 2011-27691 2011-30459

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数