特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第60位　712件（2012年：第53位　714件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第45位　796件（2012年：第37位　902件）

（ランキング更新日：2025年3月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-26338	現像処理方法、現像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 2月 4日
特開 2013-26568	基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体	2013年 2月 4日
特開 2013-26561	温度制御ユニット、基板載置台、基板処理装置、温度制御システム、及び基板処理方法	2013年 2月 4日
特開 2013-26509	熱処理装置	2013年 2月 4日
特開 2013-26490	基板処理装置	2013年 2月 4日
特開 2013-26327	洗浄方法、処理装置及び記憶媒体	2013年 2月 4日
特開 2013-26260	接合システム、基板処理システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 2月 4日
特表 2013-504176	安定した表面波プラズマソース	2013年 2月 4日
特開 2013-21179	基板搬送装置	2013年 1月31日
特開 2013-21301	成膜方法及び成膜装置	2013年 1月31日
特開 2013-21050	基板処理装置	2013年 1月31日
特開 2013-21004	現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2013年 1月31日
特開 2013-21192	プラズマエッチング方法	2013年 1月31日
特開 2013-21185	液処理装置および液処理方法	2013年 1月31日
特開 2013-21184	液処理装置および液処理方法	2013年 1月31日

712 件中 646-660 件を表示

... 44

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-26338 2013-26568 2013-26561 2013-26509 2013-26490 2013-26327 2013-26260 2013-504176 2013-21179 2013-21301 2013-21050 2013-21004 2013-21192 2013-21185 2013-21184

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数