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東京エレクトロン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第60位 712件
（
2012年：第53位 714件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第45位 796件
（2012年：第37位 902件）
（ランキング更新日：2025年7月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-12538 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2013年 1月17日 | |
| 特開 2013-12404 | 色素吸着装置 | 2013年 1月17日 | |
| 特開 2013-8835 | 電動アクチュエータ | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-8834 | 基板処理時間設定方法及び記憶媒体 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-7549 | 熱処理炉及び熱処理装置 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-7383 | 排気ポンプ | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-7121 | 成膜装置及び成膜方法 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-7099 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-7665 | 温度計測装置、基板処理装置及び温度計測方法 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-8752 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-8727 | 受動素子の駆動装置及び基板加熱装置 | 2013年 1月10日 | |
| 特開 2013-2931 | プローブ支持基板及びその製造方法 | 2013年 1月 7日 | 共同出願 |
| 特開 2013-4720 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2013年 1月 7日 | |
| 特開 2013-4172 | 高周波電力分配装置およびそれを用いた基板処理装置 | 2013年 1月 7日 | |
| 特開 2013-4869 | 太陽電池パネルの固定装置 | 2013年 1月 7日 |
712 件中 691-705 件を表示
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2013-12538 2013-12404 2013-8835 2013-8834 2013-7549 2013-7383 2013-7121 2013-7099 2013-7665 2013-8752 2013-8727 2013-2931 2013-4720 2013-4172 2013-4869
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