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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-215617	パターンのつぶれを低減するための組成物及び方法	2011年10月27日
特開 2011-210853	消耗量測定方法	2011年10月20日
特開 2011-209025	粒子検出方法及び粒子検出装置	2011年10月20日
特開 2011-210958	プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法	2011年10月20日
特開 2011-206752	フィルタ装置	2011年10月20日	共同出願
特開 2011-211241	プラズマ処理装置の制御方法	2011年10月20日
特開 2011-211067	基板処理装置及びそれに用いられる基板離脱装置	2011年10月20日
特開 2011-211166	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2011年10月20日
特開 2011-211197	簡略化されたミクロブリッジ形成及び粗さ解析	2011年10月20日
特開 2011-211163	縦型熱処理装置およびその冷却方法	2011年10月20日
特開 2011-211218	塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体	2011年10月20日
特開 2011-210872	成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2011年10月20日
特開 2011-210757	処理システム及び搬送機構の冷却方法	2011年10月20日
特開 2011-204763	基板処理装置用の多孔板の製造方法及び多孔板	2011年10月13日
特開 2011-204812	複数温度領域分割制御構造体	2011年10月13日

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2011-215617 2011-210853 2011-209025 2011-210958 2011-206752 2011-211241 2011-211067 2011-211166 2011-211197 2011-211163 2011-211218 2011-210872 2011-210757 2011-204763 2011-204812

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