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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5644916 | 塗布、現像装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646528 | 液処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644719 | 成膜装置、基板処理装置及びプラズマ発生装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644007 | 温度センサ及び熱処理装置 | 2014年12月24日 | 共同出願 |
| 特許 5645796 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646419 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5645516 | 基板液処理装置及び処理液生成方法並びに処理液生成プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646758 | 半導体装置の製造方法、半導体装置及び配線形成用治具 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644915 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5644219 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646190 | 洗浄方法及び処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5645718 | 熱処理装置 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646956 | 液体流量制御装置、液体流量制御方法および記憶媒体 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5646354 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年12月24日 | |
| 特許 5643143 | 熱処理装置 | 2014年12月17日 | 共同出願 |
694 件中 1-15 件を表示
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5644916 5646528 5644719 5644007 5645796 5646419 5645516 5646758 5644915 5644219 5646190 5645718 5646956 5646354 5643143
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