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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
(
2023年:第31位 722件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
(
2023年:第32位 762件)
(ランキング更新日:2025年11月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7607449 | 基板の受け渡し方法及び基板受け渡し装置 | 2024年12月27日 | |
| 特許 7607501 | 処理方法および処理装置 | 2024年12月27日 | |
| 特許 7607512 | プラズマ処理装置 | 2024年12月27日 | |
| 特許 7607524 | プラズマ処理装置 | 2024年12月27日 | |
| 特許 7607539 | プラズマ処理装置及び処理方法 | 2024年12月27日 | |
| 特許 7607678 | 基板処理装置、基板処理方法及び基板製造方法 | 2024年12月27日 | |
| 特許 7606658 | 抵抗変化型メモリ(RERAM)セルの金属-絶縁体-金属(MIM)スタックのその場封止 | 2024年12月26日 | |
| 特許 7604847 | スパッタ装置 | 2024年12月24日 | |
| 特許 7605001 | 情報取得システム及び情報取得方法 | 2024年12月24日 | |
| 特許 7605565 | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 | 2024年12月24日 | |
| 特許 7605567 | 搬送装置のティーチング方法及び搬送システム | 2024年12月24日 | |
| 特許 7605569 | プラズマ源及びプラズマ処理装置 | 2024年12月24日 | |
| 特許 7605610 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年12月24日 | |
| 特許 7605695 | エッジリング及びエッチング装置 | 2024年12月24日 | |
| 特許 7604069 | エッチングプロファイル制御のために超薄ルテニウム金属ハードマスクを使用する方法 | 2024年12月23日 |
809 件中 1-15 件を表示
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7607449 7607501 7607512 7607524 7607539 7607678 7606658 7604847 7605001 7605565 7605567 7605569 7605610 7605695 7604069
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第1回 「発明発掘・権利化業務」
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