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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4813449 | 洗浄装置および洗浄方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4811877 | 基板処理方法、基板処理装置およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812991 | プラズマ処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4811870 | Ｔｉ膜およびＴｉＮ膜の成膜方法およびコンタクト構造、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体およびコンピュータプログラム | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4811881 | 基板熱処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812704 | 基板処理装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4809594 | 検査装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4806241 | 基板処理装置及び基板リフト装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806856 | 熱処理方法及び熱処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805758 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及び塗布処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4804692 | ガス漏洩検知システム、ガス漏洩検知方法及び半導体製造装置 | 2011年11月 2日 | 共同出願 |
| 特許 4804567 | 基板浮上装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805384 | 基板処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4805769 | 塗布処理方法 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806127 | 薄膜形成方法 | 2011年11月 2日 |
739 件中 136-150 件を表示
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4813449 4811877 4812991 4811870 4811881 4812704 4809594 4806241 4806856 4805758 4804692 4804567 4805384 4805769 4806127
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