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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5074862 | 載置台の覆い部材 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5074883 | プローブ装置に用いられる載置装置 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5073545 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法 | 2012年11月14日 | 共同出願 |
| 特許 5071782 | 基板の欠陥検査方法及び欠陥検査プログラム | 2012年11月14日 | 共同出願 |
| 特許 5074059 | 層間絶縁膜および配線構造と、それらの製造方法 | 2012年11月14日 | 共同出願 |
| 特許 5074878 | 検査装置 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5072531 | プラズマエッチング方法及び記憶媒体 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5073645 | プラズマ酸化処理方法および半導体装置の製造方法 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5073482 | シリコン酸化膜の製造方法、その制御プログラム、記憶媒体及びプラズマ処理装置 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5074974 | プローブ方法及びプローブ方法を記録したプログラム記録媒体 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5072380 | 基板処理システム | 2012年11月14日 | |
| 特許 5068458 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5067432 | 塗布、現像装置、現像方法及び記憶媒体 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5067068 | 半導体装置の製造方法及び記憶媒体 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5067279 | 処理装置 | 2012年11月 7日 |
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5074862 5074883 5073545 5071782 5074059 5074878 5072531 5073645 5073482 5074974 5072380 5068458 5067432 5067068 5067279
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