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東京エレクトロン株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第58位 686件 上昇2013年:第60位 712件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第48位 694件 下降2013年:第45位 796件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5584808 基板搬送装置の位置調整方法 2014年 9月 3日
特許 5582816 カバー固定具及び誘導結合プラズマ処理装置 2014年 9月 3日
特許 5583503 基板洗浄装置、およびこれを備える塗布現像装置 2014年 9月 3日
特許 5584653 基板処理装置及び基板処理方法 2014年 9月 3日
特許 5584517 プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 2014年 9月 3日
特許 5582152 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 2014年 9月 3日
特許 5583716 レジストの光学特性を変化させる方法及び装置 2014年 9月 3日
特許 5580908 ガス供給装置、基板処理装置および基板処理方法 2014年 8月27日
特許 5578865 誘導結合プラズマ処理装置のカバー固定具およびカバー固定装置 2014年 8月27日
特許 5579009 成膜装置および成膜方法 2014年 8月27日
特許 5580806 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2014年 8月27日
特許 5578675 レジストパターン形成装置 2014年 8月27日
特許 5580779 現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2014年 8月27日
特許 5577530 六フッ化硫黄(SF6)および炭化水素ガスを用いた反射防止層のパターニング方法 2014年 8月27日
特許 5578782 プラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 2014年 8月27日

694 件中 151-165 件を表示

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5584808 5582816 5583503 5584653 5584517 5582152 5583716 5580908 5578865 5579009 5580806 5578675 5580779 5577530 5578782

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