特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第58位　686件（2013年：第60位　712件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5584808	基板搬送装置の位置調整方法	2014年 9月 3日
特許 5582816	カバー固定具及び誘導結合プラズマ処理装置	2014年 9月 3日
特許 5583503	基板洗浄装置、およびこれを備える塗布現像装置	2014年 9月 3日
特許 5584653	基板処理装置及び基板処理方法	2014年 9月 3日
特許 5584517	プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法	2014年 9月 3日
特許 5582152	基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体	2014年 9月 3日
特許 5583716	レジストの光学特性を変化させる方法及び装置	2014年 9月 3日
特許 5580908	ガス供給装置、基板処理装置および基板処理方法	2014年 8月27日
特許 5578865	誘導結合プラズマ処理装置のカバー固定具およびカバー固定装置	2014年 8月27日
特許 5579009	成膜装置および成膜方法	2014年 8月27日
特許 5580806	剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 8月27日
特許 5578675	レジストパターン形成装置	2014年 8月27日
特許 5580779	現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 8月27日
特許 5577530	六フッ化硫黄（ＳＦ６）および炭化水素ガスを用いた反射防止層のパターニング方法	2014年 8月27日
特許 5578782	プラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2014年 8月27日

694 件中 151-165 件を表示

... 11

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5584808 5582816 5583503 5584653 5584517 5582152 5583716 5580908 5578865 5579009 5580806 5578675 5580779 5577530 5578782

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数