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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5065167 | 基板の処理方法及び基板の処理システム | 2012年10月31日 | |
| 特許 5061229 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063520 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5064319 | プラズマエッチング方法、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5060412 | 異物検出方法、異物検出装置、異物検出システム及び記憶媒体 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063817 | 基板処理装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5064331 | 洗浄ブラシ、基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5062806 | 群管理システム、プロセス情報管理装置、制御装置、およびプログラム | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063103 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記録媒体 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5064119 | 真空引き方法及び記憶媒体 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5063741 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5065071 | 塗布処理方法、塗布処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5062143 | 成膜装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5059792 | プラズマ処理装置 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5062057 | 真空処理装置 | 2012年10月31日 |
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5065167 5061229 5063520 5064319 5060412 5063817 5064331 5062806 5063103 5064119 5063741 5065071 5062143 5059792 5062057
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