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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5578782 | プラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5580844 | エッチング方法 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5579796 | 基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5577532 | ＤＣ／ＲＦハイブリッド処理システム | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5575934 | 接合装置及び接合システム | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5573034 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5574929 | 色素吸着装置 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5575558 | 処理装置 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5573772 | 成膜方法及び成膜装置 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5575600 | 温度測定方法、記憶媒体、プログラム | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5575706 | 疎水化処理装置、疎水化処理方法、プログラム及びコンピュータ記録媒体。 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5575299 | 成膜方法および成膜装置 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5575691 | 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5575286 | ＭＯＣＶＤ反応器用シャワーヘッド、ＭＯＣＶＤ反応器、ＭＯＣＶＤ装置及び洗浄方法 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5573666 | 原料供給装置及び成膜装置 | 2014年 8月20日 |
694 件中 166-180 件を表示
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5578782 5580844 5579796 5577532 5575934 5573034 5574929 5575558 5573772 5575600 5575706 5575299 5575691 5575286 5573666
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