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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5060517	インプリントシステム	2012年10月31日
特許 5063817	基板処理装置	2012年10月31日
特許 5063560	基板処理装置	2012年10月31日
特許 5060412	異物検出方法、異物検出装置、異物検出システム及び記憶媒体	2012年10月31日
特許 5064296	シリコン炭窒化膜の形成方法および形成装置	2012年10月31日
特許 5062143	成膜装置	2012年10月31日
特許 5063103	基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記録媒体	2012年10月31日
特許 5065167	基板の処理方法及び基板の処理システム	2012年10月31日
特許 5065121	レジスト液供給装置、レジスト液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2012年10月31日
特許 5062806	群管理システム、プロセス情報管理装置、制御装置、およびプログラム	2012年10月31日
特許 5058836	処理装置、処理方法、被処理体の認識方法および記憶媒体	2012年10月24日
特許 5058744	基板の測定方法、プログラム、プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体及び基板の処理システム	2012年10月24日
特許 5059583	真空装置、真空処理システムおよび真空室の圧力制御方法	2012年10月24日
特許 5058727	天板構造及びこれを用いたプラズマ処理装置	2012年10月24日	共同出願
特許 5054867	ハロゲン化タンタル前駆物質からのＴａＮフイルムのＰＥＣＶＤ	2012年10月24日	共同出願

902 件中 181-195 件を表示

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5060517 5063817 5063560 5060412 5064296 5062143 5063103 5065167 5065121 5062806 5058836 5058744 5059583 5058727 5054867

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