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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5566100 | 成膜システム内の粒子コンタミネーションを抑制する方法および機器 | 2014年 8月 6日 | 共同出願 |
| 特許 5568433 | 水処理装置及び水処理方法 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5566498 | 誘導結合プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5565242 | 縦型熱処理装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5565422 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5568495 | 熱処理装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5567392 | プラズマ処理装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5566265 | 基板処理装置、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板の搬送方法 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5568340 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5568608 | プラズマ処理装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5566117 | 静電吸着電極およびその製造方法、ならびに基板処理装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5565188 | ヒータ装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5565482 | 液処理方法及びフィルタ内の気体の除去装置 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5561137 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5562712 | 半導体製造装置用のガス供給装置 | 2014年 7月30日 |
694 件中 196-210 件を表示
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5566100 5568433 5566498 5565242 5565422 5568495 5567392 5566265 5568340 5568608 5566117 5565188 5565482 5561137 5562712
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2月25日(火) -
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