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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4787872 | 基板搬送処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787154 | ｌｏｗ−ｋ誘電体膜並びにその形成方法および形成する処理システム | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786925 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787020 | 成膜方法 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4785210 | 基板搬送装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4788610 | 加熱装置、塗布、現像装置、加熱方法及び記憶媒体 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786339 | 乾燥空気生成装置、基板処理システムおよび乾燥空気生成方法 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4788785 | 現像装置、現像処理方法及び記憶媒体 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787073 | 処理方法および処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787761 | 半導体ウエハーの高圧処理チャンバー | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787103 | 液処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4784599 | 真空処理装置及び真空処理方法並びに記憶媒体 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4785905 | 基板搬送処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786499 | 熱処理板の温度設定方法、プログラム、プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体及び熱処理板の温度設定装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4780715 | サーバ装置およびプログラム | 2011年 9月28日 |
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4787872 4787154 4786925 4787020 4785210 4788610 4786339 4788785 4787073 4787761 4787103 4784599 4785905 4786499 4780715
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