ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2011年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4787872 | 基板搬送処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787154 | ｌｏｗ−ｋ誘電体膜並びにその形成方法および形成する処理システム | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786925 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787020 | 成膜方法 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4785210 | 基板搬送装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4788610 | 加熱装置、塗布、現像装置、加熱方法及び記憶媒体 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786339 | 乾燥空気生成装置、基板処理システムおよび乾燥空気生成方法 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4788785 | 現像装置、現像処理方法及び記憶媒体 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787073 | 処理方法および処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787761 | 半導体ウエハーの高圧処理チャンバー | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4787103 | 液処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4784599 | 真空処理装置及び真空処理方法並びに記憶媒体 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4785905 | 基板搬送処理装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4786499 | 熱処理板の温度設定方法、プログラム、プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体及び熱処理板の温度設定装置 | 2011年10月 5日 | |
| 特許 4780715 | サーバ装置およびプログラム | 2011年 9月28日 |
739 件中 211-225 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4787872 4787154 4786925 4787020 4785210 4788610 4786339 4788785 4787073 4787761 4787103 4784599 4785905 4786499 4780715
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒170-0013 東京都豊島区東池袋3丁目9-10 池袋FNビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
