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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5562110 | レジスト塗布装置、これを備える塗布現像ユニット、およびレジスト膜形成方法、これを実行するためのプログラム | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5560909 | 蓋体保持治具 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5563522 | プラズマ処理装置 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5561849 | 検査装置の操作方法及び検査装置の操作プログラム | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5563530 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5563860 | 基板処理方法 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5560589 | 成膜方法及びプラズマ成膜装置 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5562189 | 基板処理装置 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5562759 | 基板処理装置 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5563347 | プラズマ処理装置及び半導体装置の製造方法 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5561137 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5562712 | 半導体製造装置用のガス供給装置 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5554469 | 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5559988 | シリコン酸化膜用成膜原料およびそれを用いたシリコン酸化膜の成膜方法 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5560144 | 半導体装置の製造方法 | 2014年 7月23日 |
694 件中 211-225 件を表示
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5562110 5560909 5563522 5561849 5563530 5563860 5560589 5562189 5562759 5563347 5561137 5562712 5554469 5559988 5560144
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