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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4781505 | 処理装置の自動検査方法および自動復帰方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4783094 | プラズマ処理用環状部品、プラズマ処理装置、及び外側環状部材 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4780789 | 処理液供給装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782761 | 成膜装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782682 | 連絡空間を用いた効率的な温度制御のための方法と装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782316 | 処理方法及びプラズマ装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781711 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4783762 | 基板載置台および基板処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782953 | プローブカード特性測定装置、プローブ装置及びプローブ方法 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781901 | 熱処理方法，プログラム及び熱処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782733 | 載置台およびそれを用いたプラズマ処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781165 | 熱処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4780808 | 現像処理方法及び現像処理装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4781430 | 撮像位置補正方法及び基板撮像装置 | 2011年 9月28日 | |
| 特許 4782699 | 部品の消耗を監視するための方法とシステム | 2011年 9月28日 |
739 件中 226-240 件を表示
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4781505 4783094 4780789 4782761 4782682 4782316 4781711 4783762 4782953 4781901 4782733 4781165 4780808 4781430 4782699
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2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
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2月27日(木) - 東京 千代田区
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