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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5048300 | 基板載置装置の評価装置及びその評価方法 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5050369 | 処理装置 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5049303 | 熱処理装置、熱処理装置の温度調整方法、及び、プログラム | 2012年10月17日 | |
| 特許 5050945 | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5043696 | 処理液混合装置、基板処理装置および処理液混合方法並びに記憶媒体 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5045218 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5046423 | 原料液供給ユニット | 2012年10月10日 | 共同出願 |
| 特許 5046506 | 基板処理装置，基板処理方法，プログラム，プログラムを記録した記録媒体 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5045057 | プラズマ処理方法 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043394 | 蒸着装置およびその運転方法 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5045741 | 薬液供給ノズル及び薬液供給方法 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5044579 | 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、薄膜形成装置及びプログラム | 2012年10月10日 | |
| 特許 5045000 | 成膜装置、ガス供給装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5044931 | ガス供給装置及び基板処理装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5047644 | プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2012年10月10日 |
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5048300 5050369 5049303 5050945 5043696 5045218 5046423 5046506 5045057 5043394 5045741 5044579 5045000 5044931 5047644
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