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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年5月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5559988 | シリコン酸化膜用成膜原料およびそれを用いたシリコン酸化膜の成膜方法 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5557942 | 基板搬送装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5558452 | 貼り合わせ装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5560144 | 半導体装置の製造方法 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5554469 | 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5554099 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5559823 | デジタル／アナログコンバータ | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5554047 | プラズマ処理装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5555743 | 基板を化学的処理する処理システムおよび方法 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5559736 | 基板加熱装置、これを備える塗布現像装置、及び基板加熱方法 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5559505 | プラズマ処理装置 | 2014年 7月23日 | |
| 特許 5552316 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5551583 | 金属系膜の成膜方法および記憶媒体 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5550566 | 半導体デバイスのＣｕメタライゼーションへ選択的低温Ｒｕ堆積を統合する方法 | 2014年 7月16日 | |
| 特許 5549552 | 真空処理装置の組み立て方法及び真空処理装置 | 2014年 7月16日 |
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5559988 5557942 5558452 5560144 5554469 5554099 5559823 5554047 5555743 5559736 5559505 5552316 5551583 5550566 5549552
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