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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4773096 | 基板帯電ダメージを抑制するための方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4772620 | 液浸露光用塗布膜の処理条件決定方法および処理条件決定装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4772456 | 半導体装置の製造方法、半導体装置の製造装置、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4771855 | サーバ装置、およびプログラム | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4771845 | 基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4774186 | 偏光を削減する小スポット分光測定器具 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4772610 | 分析方法 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4773735 | 真空容器の水分除去方法、該方法を実行するためのプログラム、及び記憶媒体 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4770938 | 基板処理装置 | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4770035 | 処理システム及び処理システムの被処理体の搬送方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4767632 | 基板の異常検出方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4767574 | 処理チャンバおよび処理装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4765169 | 熱処理装置と熱処理方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4767783 | 液処理装置 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4765328 | 被処理体の処理装置 | 2011年 9月 7日 |
739 件中 256-270 件を表示
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4773096 4772620 4772456 4771855 4771845 4774186 4772610 4773735 4770938 4770035 4767632 4767574 4765169 4767783 4765328
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