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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5542743 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5546893 | インプリント方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5545061 | 処理装置及び成膜方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5545055 | 支持体構造及び処理装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544985 | 液処理装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544907 | ガスシャワー用の構造体及び基板処理装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544413 | ツール性能劣化およびミスマッチの検出のための方法およびシステム | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5542697 | 生物学に基づく自律学習ツール | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5547366 | プラズマ処理装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5547147 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5546472 | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544893 | 基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5544343 | 成膜装置 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5543633 | 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5541311 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置及び記憶媒体 | 2014年 7月 9日 |
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5542743 5546893 5545061 5545055 5544985 5544907 5544413 5542697 5547366 5547147 5546472 5544893 5544343 5543633 5541311
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