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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5033108 | 液処理方法、液処理装置、および記憶媒体 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5036415 | 液処理装置および液処理方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5032048 | 基板処理装置の制御装置，制御方法および制御プログラムを記憶した記録媒体 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5031377 | プラズマプロセス装置、ＩＣＰ源およびＩＣＰ装置 | 2012年 9月19日 | 共同出願 |
| 特許 5028473 | ウェハ均一性制御を用いた動的サンプリング測定法 | 2012年 9月19日 | 共同出願 |
| 特許 5031542 | 二流体ノズル、基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5029435 | 載置台構造及び熱処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5029303 | 処理ガスの供給方法、処理ガスの供給システム及び被処理体の処理システム | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5029257 | 載置台構造及び処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5029382 | 処理装置及び処理方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5029535 | 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028957 | 成膜方法及び成膜装置並びに記憶媒体 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5029089 | プラズマ処理装置用の載置台及びプラズマ処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031252 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031186 | 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理プログラム | 2012年 9月19日 |
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5033108 5036415 5032048 5031377 5028473 5031542 5029435 5029303 5029257 5029382 5029535 5028957 5029089 5031252 5031186
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