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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4844510 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4848376 | 高圧処理システム用超臨界流体均質化方法及びシステム | 2011年12月28日 | 共同出願 |
| 特許 4842227 | 半導体製造装置における地震被害拡散低減システム | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842787 | 蒸気発生装置、処理システム、蒸気発生方法及び記録媒体 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842176 | 温度測定装置及び温度測定方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842771 | 処理システムと処理方法および記録媒体 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842263 | ＴＥＲＡ層を化学処理するための処理システムおよび方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843285 | 電子デバイスの製造方法及びプログラム | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843274 | プラズマ成膜方法 | 2011年12月21日 | 共同出願 |
| 特許 4840168 | 加熱装置、加熱方法及び記憶媒体 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843212 | レーザー処理装置及びレーザー処理方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4841183 | 基板処理装置，搬送装置，搬送装置の制御方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842429 | 熱処理装置の設計方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842175 | 温度測定装置及び温度測定方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4841035 | 真空処理装置 | 2011年12月21日 |
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4844510 4848376 4842227 4842787 4842176 4842771 4842263 4843285 4843274 4840168 4843212 4841183 4842429 4842175 4841035
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