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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

(ランキング更新日:2020年7月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5107842 基板処理方法 2012年12月26日
特許 5107032 チャンバクリーニング処理を制御するための方法 2012年12月26日 共同出願
特許 5109376 加熱装置、加熱方法及び記憶媒体 2012年12月26日
特許 5107408 ピックアップ方法及びピックアップ装置 2012年12月26日
特許 5106331 基板載置台の降温方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および基板処理システム 2012年12月26日
特許 5107285 成膜装置、成膜方法、プログラム、およびコンピュータ可読記憶媒体 2012年12月26日
特許 5111030 基板処理システムに用いられる耐浸食性絶縁層を有する温度制御された基板ホルダ 2012年12月26日
特許 5105866 キャパシタ電極の製造方法、エッチング方法およびエッチングシステム、ならびに記憶媒体 2012年12月26日
特許 5107329 現像処理方法 2012年12月26日
特許 5107572 基板を化学的処理する処理システムおよび方法 2012年12月26日
特許 5100853 プラズマ処理方法 2012年12月19日
特許 5100057 半導体装置の製造方法 2012年12月19日
特許 5100372 基材を処理するための加工システムおよび方法 2012年12月19日
特許 5100075 プラズマエッチング方法 2012年12月19日
特許 5101103 プラズマ処理方法及びコンピュータ記憶媒体 2012年12月19日

902 件中 16-30 件を表示

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5107842 5107032 5109376 5107408 5106331 5107285 5111030 5105866 5107329 5107572 5100853 5100057 5100372 5100075 5101103

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