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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5643528 | 基板処理装置 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5643143 | 熱処理装置 | 2014年12月17日 | 共同出願 |
| 特許 5641110 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5643688 | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5640943 | 露光装置の設定方法、基板撮像装置及び記憶媒体 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5640894 | 温度測定装置、温度測定方法、記憶媒体及び熱処理装置 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5642001 | プラズマエッチング方法 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5643062 | プラズマ処理装置 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5642531 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5642612 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5642575 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5642628 | 基板反り除去装置、基板反り除去方法及び記憶媒体 | 2014年12月17日 | |
| 特許 5637212 | 基板処理方法、パターン形成方法、半導体素子の製造方法、および半導体素子 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638017 | 基板の表面改質方法、コンピュータ記憶媒体及び基板の表面改質装置 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5637974 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2014年12月10日 |
694 件中 16-30 件を表示
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5643528 5643143 5641110 5643688 5640943 5640894 5642001 5643062 5642531 5642612 5642575 5642628 5637212 5638017 5637974
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