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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4758846 | 乾燥装置、乾燥方法、及び乾燥プログラム、並びに、これらを有する基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラム | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4761774 | 温度／厚さ測定装置，温度／厚さ測定方法，温度／厚さ測定システム，制御システム，制御方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4761740 | マイクロレンズの形成方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763763 | レジスト塗布現像処理システム | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763235 | プラズマ処理のための装置並びに方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762998 | 処理方法及び記録媒体 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762835 | 基板処理方法、基板処理装置、プログラムおよびプログラム記録媒体 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762743 | 熱処理装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4761381 | 薄膜除去装置及び薄膜除去方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4760919 | 塗布、現像装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4759916 | 処理装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4757403 | 固体原料気化装置 | 2011年 8月24日 | 共同出願 |
| 特許 4756540 | プラズマ処理装置と方法 | 2011年 8月24日 | 共同出願 |
| 特許 4756076 | 基板処理システム | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4754757 | 基板のプラズマ処理を調節するための方法、プラズマ処理システム、及び、電極組体 | 2011年 8月24日 |
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4758846 4761774 4761740 4763763 4763235 4762998 4762835 4762743 4761381 4760919 4759916 4757403 4756540 4756076 4754757
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