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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
(2010年:第57位 692件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
(2010年:第39位 580件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4754196 | 減圧処理室内の部材清浄化方法および基板処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4755233 | 基板処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4753313 | 基板処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4754609 | 処理装置およびそのクリーニング方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4754469 | 基板載置台の製造方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4754087 | 成膜方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4753888 | 基板保持機構及びプラズマ処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4753306 | プラズマ処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4753276 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4757217 | 基板処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4756845 | 温度測定装置,温度測定方法,温度測定システム,制御システム,制御方法 | 2011年 8月24日 | |
特許 4757882 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、基板処理システムならびに記録媒体 | 2011年 8月24日 | |
特許 4757126 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4757924 | 基板処理装置 | 2011年 8月24日 | |
特許 4757499 | 処理装置および処理方法 | 2011年 8月24日 |
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4754196 4755233 4753313 4754609 4754469 4754087 4753888 4753306 4753276 4757217 4756845 4757882 4757126 4757924 4757499
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