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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5528244 | プラズマ処理方法および記憶媒体 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5528106 | 乾式非プラズマ処理システム及び当該システムの使用方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5527976 | 多変量解析を用いた半導体処理システムからの計測データの変換方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5524154 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5522144 | 加熱装置、加熱方法及び記憶媒体 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5523989 | 量子ドット形成方法及びこれを実施するためのプログラムを記憶する記憶媒体並びに基板処理装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5527197 | 成膜装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5527490 | プラズマ処理装置用誘電体窓、およびプラズマ処理装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5527106 | 真空処理装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5526876 | 加熱装置及びアニール装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525504 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5524139 | 基板位置検出装置、これを備える成膜装置、および基板位置検出方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5522887 | プラズマ処理装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5522028 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5527075 | 搬送機構 | 2014年 6月18日 |
694 件中 301-315 件を表示
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5528244 5528106 5527976 5524154 5522144 5523989 5527197 5527490 5527106 5526876 5525504 5524139 5522887 5522028 5527075
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