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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5020915	ポリシリコン膜の除去方法、処理装置および記憶媒体	2012年 9月 5日
特許 5020101	ラントゥラン制御器を用いた欠陥検出および分類（ＦＤＣ）	2012年 9月 5日
特許 5019811	静電吸着電極の補修方法	2012年 9月 5日
特許 5019741	半導体装置の製造方法および基板処理システム	2012年 9月 5日
特許 5017147	基板の処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2012年 9月 5日
特許 5016351	基板処理システム及び基板洗浄装置	2012年 9月 5日
特許 5020817	ＲＦソース、プラズマ処理装置およびプラズマによるウェーハの処理方法	2012年 9月 5日	共同出願
特許 5019430	間欠的なプリカーサガスフロープロセスを使用して金属層を形成する方法。	2012年 9月 5日	共同出願
特許 5016892	検査装置及び検査方法	2012年 9月 5日	共同出願
特許 5018388	塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体	2012年 9月 5日
特許 5018255	薬液供給システム及び薬液供給方法並びに記憶媒体	2012年 9月 5日
特許 5020758	ガス供給装置、半導体製造装置及びガス供給装置用部品	2012年 9月 5日
特許 5020650	蒸着装置、蒸着方法および蒸着装置の製造方法	2012年 9月 5日
特許 5012931	液処理方法及び液処理装置	2012年 8月29日
特許 5012651	塗布装置、塗布方法、塗布、現像装置及び記憶媒体	2012年 8月29日

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5020915 5020101 5019811 5019741 5017147 5016351 5020817 5019430 5016892 5018388 5018255 5020758 5020650 5012931 5012651

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