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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5015717 | 基板洗浄装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5010875 | 洗浄装置及び洗浄方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5013987 | 基板処理装置および基板搬送装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5010019 | ステージ | 2012年 8月29日 | |
特許 5013979 | 同軸ケーブルの異常検知システムとその異常検知方法、及びその異常検知システムを備えた処理装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5011382 | バルブおよび該バルブを備えた処理装置 | 2012年 8月29日 | |
特許 5011355 | 成膜方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5010842 | 試験対象物の保護回路、試験対象物の保護方法、試験装置、及び試験方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015763 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および、プログラム記録媒体 | 2012年 8月29日 | |
特許 5012393 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2012年 8月29日 | |
特許 5011345 | レジストパターンのスリミング処理方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015870 | 基板処理装置、保持部材および基板処理方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015847 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラムならびに記録媒体 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015517 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5015134 | 基板から酸化物を除去する方法 | 2012年 8月29日 |
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5015717 5010875 5013987 5010019 5013979 5011382 5011355 5010842 5015763 5012393 5011345 5015870 5015847 5015517 5015134
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