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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5014985	基材を処理するためのプロセス加工システムおよび方法	2012年 8月29日
特許 5014811	基板の処理方法	2012年 8月29日
特許 5014208	基板処理方法及び基板処理装置	2012年 8月29日
特許 5012652	基板処理装置、基板処理方法、塗布、現像装置及び記憶媒体	2012年 8月29日
特許 5011782	半導体装置の製造方法、プラズマ処理装置及び記憶媒体。	2012年 8月29日
特許 5010414	基板処理システム，基板処理装置の制御方法，およびプログラム	2012年 8月29日
特許 5015002	マルチトレイの膜用前駆体気化システム、及び、該システムを内蔵する薄膜成膜システム	2012年 8月29日	共同出願
特許 5013393	プラズマ処理装置と方法	2012年 8月29日	共同出願
特許 5011195	流体分流供給ユニット	2012年 8月29日	共同出願
特許 5014990	数式ベースのラン・ツウ・ラン制御	2012年 8月29日	共同出願
特許 5004271	マイクロ波プラズマ処理装置、誘電体窓の製造方法およびマイクロ波プラズマ処理方法	2012年 8月22日	共同出願
特許 5008005	プローブカード	2012年 8月22日	共同出願
特許 5009527	半導体装置、半導体装置の製造方法及びプラズマＣＶＤ用ガス	2012年 8月22日	共同出願
特許 5009253	基板洗浄装置	2012年 8月22日
特許 5008957	シリコン窒化膜の形成方法、形成装置、形成装置の処理方法及びプログラム	2012年 8月22日

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5014985 5014811 5014208 5012652 5011782 5010414 5015002 5013393 5011195 5014990 5004271 5008005 5009527 5009253 5008957

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