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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5513413 | 成膜装置およびガス吐出部材 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5511767 | 蒸着装置 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5514413 | プラズマエッチング方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5514310 | プラズマ処理方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5513104 | プラズマ処理装置 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5512560 | 液処理装置 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5512424 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5508737 | 静電チャック及びプラズマ処理装置 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5507523 | 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5502788 | 浮上式塗布装置 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5505384 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5503602 | 処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5507909 | 成膜方法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5504793 | 熱処理装置及び冷却方法 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5501718 | 基板の異常載置状態の検知方法、基板処理方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および基板処理装置 | 2014年 5月28日 |
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5513413 5511767 5514413 5514310 5513104 5512560 5512424 5508737 5507523 5502788 5505384 5503602 5507909 5504793 5501718
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