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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年5月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4736564 | 載置台装置の取付構造及び処理装置 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4735095 | リモートプラズマ発生ユニットの電界分布測定装置、リモートプラズマ発生ユニット、処理装置及びリモートプラズマ発生ユニットの特性調整方法 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4732787 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4732469 | 表面処理方法及びその装置 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4732351 | 処理装置及びヒーターユニット | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4731760 | 真空処理装置および真空処理方法 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4731580 | 成膜方法および成膜装置 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4736938 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4734063 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4733214 | マスクパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4732475 | 表面処理方法及びその装置 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4731755 | 移載装置の制御方法および熱処理方法並びに熱処理装置 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4731694 | 半導体装置の製造方法および基板処理装置 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4731650 | 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 | 2011年 7月27日 | |
| 特許 4727810 | 被処理体の真空保持装置 | 2011年 7月20日 |
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4736564 4735095 4732787 4732469 4732351 4731760 4731580 4736938 4734063 4733214 4732475 4731755 4731694 4731650 4727810
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