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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5496837 | 被処理体の冷却方法、冷却装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5496828 | 熱処理装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5499129 | 排気ポンプ及び排気システム | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5496834 | センサ基板 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5501193 | 基板処理装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5501086 | 現像処理方法 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5497144 | 半導体製造装置のプロセス監視装置及び半導体製造装置のプロセス監方法並びに半導体製造装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5501201 | 周辺露光装置及びその方法 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5501085 | 基板処理方法 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5498058 | 導電膜の製造方法及び製造装置並びに導電膜 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5497860 | 熱処理炉及び熱処理炉用支持体 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5497278 | 銅の異方性ドライエッチング方法および装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5497091 | 基板処理方法 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5496966 | 液処理装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5496568 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2014年 5月21日 |
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5496837 5496828 5499129 5496834 5501193 5501086 5497144 5501201 5501085 5498058 5497860 5497278 5497091 5496966 5496568
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