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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5490741 | 基板搬送装置の位置調整方法、及び基板処理装置 | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5490192 | マイクロ波加熱処理装置および処理方法 | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5490024 | 有孔性低誘電率誘電膜の硬化方法 | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5490563 | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 | 2014年 5月14日 | 共同出願 |
| 特許 5492574 | 基板のクリーニング方法及び基板のクリーニング装置 | 2014年 5月14日 | 共同出願 |
| 特許 5484373 | パターン形成方法 | 2014年 5月 7日 | 共同出願 |
| 特許 5486030 | 塗布装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5485928 | 基板浮上搬送装置及び基板処理装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5487064 | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5487748 | バリヤ層、成膜方法及び処理システム | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5484729 | Ｓｉ含有膜の選択的堆積のための断続的堆積処理方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5484478 | 成膜装置及び成膜ヘッド | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5482282 | 載置台構造及び成膜装置 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5485936 | 温度校正装置及び温度校正方法 | 2014年 5月 7日 | |
| 特許 5486009 | 粒子の注入装置及び方法 | 2014年 5月 7日 |
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5490741 5490192 5490024 5490563 5492574 5484373 5486030 5485928 5487064 5487748 5484729 5484478 5482282 5485936 5486009
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