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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5101665 基板載置台、基板処理装置および基板処理システム 2012年12月19日
特許 5104151 気化装置、成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 2012年12月19日
特許 5102706 バッフル板及び基板処理装置 2012年12月19日
特許 5102653 プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体 2012年12月19日
特許 5100853 プラズマ処理方法 2012年12月19日
特許 5100863 液処理装置 2012年12月19日
特許 5100075 プラズマエッチング方法 2012年12月19日
特許 5101103 プラズマ処理方法及びコンピュータ記憶媒体 2012年12月19日
特許 5100372 基材を処理するための加工システムおよび方法 2012年12月19日
特許 5104994 現像装置、現像方法及び記憶媒体 2012年12月19日
特許 5099874 プローブカードの固定機構、プローブカードの固定方法及びプローブ装置 2012年12月19日
特許 5103223 マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理装置の使用方法 2012年12月19日 共同出願
特許 5101069 高圧力蒸着及び低圧力エッチング処理の組み合わせにおける均一プラズマのためのIPVDのためのICP源 2012年12月19日 共同出願
特許 5101256 基板処理方法および半導体装置の製造方法、コンピュータ可読記録媒体 2012年12月19日
特許 5103983 ガス供給方法、ガス供給装置、半導体製造装置及び記憶媒体 2012年12月19日

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5101665 5104151 5102706 5102653 5100853 5100863 5100075 5101103 5100372 5104994 5099874 5103223 5101069 5101256 5103983

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