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■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件 (2011年:第41位 739件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5101665 | 基板載置台、基板処理装置および基板処理システム | 2012年12月19日 | |
特許 5104151 | 気化装置、成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2012年12月19日 | |
特許 5102706 | バッフル板及び基板処理装置 | 2012年12月19日 | |
特許 5102653 | プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体 | 2012年12月19日 | |
特許 5100853 | プラズマ処理方法 | 2012年12月19日 | |
特許 5100863 | 液処理装置 | 2012年12月19日 | |
特許 5100075 | プラズマエッチング方法 | 2012年12月19日 | |
特許 5101103 | プラズマ処理方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2012年12月19日 | |
特許 5100372 | 基材を処理するための加工システムおよび方法 | 2012年12月19日 | |
特許 5104994 | 現像装置、現像方法及び記憶媒体 | 2012年12月19日 | |
特許 5099874 | プローブカードの固定機構、プローブカードの固定方法及びプローブ装置 | 2012年12月19日 | |
特許 5103223 | マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理装置の使用方法 | 2012年12月19日 | 共同出願 |
特許 5101069 | 高圧力蒸着及び低圧力エッチング処理の組み合わせにおける均一プラズマのためのIPVDのためのICP源 | 2012年12月19日 | 共同出願 |
特許 5101256 | 基板処理方法および半導体装置の製造方法、コンピュータ可読記録媒体 | 2012年12月19日 | |
特許 5103983 | ガス供給方法、ガス供給装置、半導体製造装置及び記憶媒体 | 2012年12月19日 |
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5101665 5104151 5102706 5102653 5100853 5100863 5100075 5101103 5100372 5104994 5099874 5103223 5101069 5101256 5103983
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11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月26日(火) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月4日(水) - 東京 千代田区
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12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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