特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第53位　714件（2011年：第62位　621件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第37位　902件（2011年：第41位　739件）

（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5101665	基板載置台、基板処理装置および基板処理システム	2012年12月19日
特許 5104151	気化装置、成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2012年12月19日
特許 5102706	バッフル板及び基板処理装置	2012年12月19日
特許 5102653	プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体	2012年12月19日
特許 5100853	プラズマ処理方法	2012年12月19日
特許 5100863	液処理装置	2012年12月19日
特許 5100075	プラズマエッチング方法	2012年12月19日
特許 5101103	プラズマ処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2012年12月19日
特許 5100372	基材を処理するための加工システムおよび方法	2012年12月19日
特許 5104994	現像装置、現像方法及び記憶媒体	2012年12月19日
特許 5099874	プローブカードの固定機構、プローブカードの固定方法及びプローブ装置	2012年12月19日
特許 5103223	マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理装置の使用方法	2012年12月19日	共同出願
特許 5101069	高圧力蒸着及び低圧力エッチング処理の組み合わせにおける均一プラズマのためのＩＰＶＤのためのＩＣＰ源	2012年12月19日	共同出願
特許 5101256	基板処理方法および半導体装置の製造方法、コンピュータ可読記録媒体	2012年12月19日
特許 5103983	ガス供給方法、ガス供給装置、半導体製造装置及び記憶媒体	2012年12月19日

902 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5101665 5104151 5102706 5102653 5100853 5100863 5100075 5101103 5100372 5104994 5099874 5103223 5101069 5101256 5103983

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数