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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5101665	基板載置台、基板処理装置および基板処理システム	2012年12月19日
特許 5104151	気化装置、成膜装置、成膜方法及び記憶媒体	2012年12月19日
特許 5102706	バッフル板及び基板処理装置	2012年12月19日
特許 5102653	プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置及びコンピュータ記憶媒体	2012年12月19日
特許 5100853	プラズマ処理方法	2012年12月19日
特許 5100863	液処理装置	2012年12月19日
特許 5100075	プラズマエッチング方法	2012年12月19日
特許 5101103	プラズマ処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2012年12月19日
特許 5100372	基材を処理するための加工システムおよび方法	2012年12月19日
特許 5104994	現像装置、現像方法及び記憶媒体	2012年12月19日
特許 5099874	プローブカードの固定機構、プローブカードの固定方法及びプローブ装置	2012年12月19日
特許 5103223	マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理装置の使用方法	2012年12月19日	共同出願
特許 5101069	高圧力蒸着及び低圧力エッチング処理の組み合わせにおける均一プラズマのためのＩＰＶＤのためのＩＣＰ源	2012年12月19日	共同出願
特許 5101256	基板処理方法および半導体装置の製造方法、コンピュータ可読記録媒体	2012年12月19日
特許 5103983	ガス供給方法、ガス供給装置、半導体製造装置及び記憶媒体	2012年12月19日

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5101665 5104151 5102706 5102653 5100853 5100863 5100075 5101103 5100372 5104994 5099874 5103223 5101069 5101256 5103983

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