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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5638477 | 現像処理方法、現像処理装置、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638413 | マスクパターンの形成方法 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638238 | フッ素及び水素を使用する順次の酸化物の取り除き | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638682 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5639963 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録した記録媒体 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5638017 | 基板の表面改質方法、コンピュータ記憶媒体及び基板の表面改質装置 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5634953 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置および記憶媒体 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635452 | 基板処理システム | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5634341 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5633928 | 深溝ライナ除去方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5634381 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5636486 | 多層／多入力／多出力（ＭＬＭＩＭＯ）モデル及び当該モデルの使用方法 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635019 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5635164 | 成膜方法および成膜装置 | 2014年12月 3日 | |
| 特許 5632240 | 微細パターンの形成方法 | 2014年11月26日 |
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5638477 5638413 5638238 5638682 5639963 5638017 5634953 5635452 5634341 5633928 5634381 5636486 5635019 5635164 5632240
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12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
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