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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4714185 | ガス処理装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4713483 | 基板上にリンス溶液を分配する方法と装置。 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4712462 | 基板処理監視装置、基板処理監視システム、基板処理監視プログラム及び記録媒体 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4712343 | 熱処理装置、熱処理方法、プログラム及び記録媒体 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4707686 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705517 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4709192 | プラズマ処理装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4708705 | 処理装置，ガス放電抑制部材 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4707749 | 基板交換方法及び基板処理装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4707588 | プラズマ処理装置及びそれに用いられる電極 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705490 | ダイヤフラム弁および基板処理装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4709047 | 基板処理装置及び側壁部品 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4708465 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4708243 | 液処理装置および液処理方法ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4707421 | 処理装置，処理装置の消耗部品管理方法，処理システム，処理システムの消耗部品管理方法 | 2011年 6月22日 |
739 件中 436-450 件を表示
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4714185 4713483 4712462 4712343 4707686 4705517 4709192 4708705 4707749 4707588 4705490 4709047 4708465 4708243 4707421
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